Alumiiniumoksiidi keraamiline substraat

Alumiiniumoksiidkeraamiline substraat, mida tavaliselt nimetatakse ka alumiiniumoksiidkeraamikaks, Al2O3-keraamikaks või lihtsalt alumiiniumoksiidiks, on põhiline keraamiline materjal, mis koosneb peamiselt alumiiniumoksiidist (Al2O3). See ühend, mida nimetatakse keemiliselt alumiiniumoksiidiks ja erinevates keeltes kuióxido de aluminio, alumiiniumist oksit, võialumiiniumoksiid, toimib põhikomponendina. Sageli nimetatakse seda keraamiliseks alumiiniumoksiidiks või alumiiniumkeraamikaks ja seda kasutatakse selle suurepäraste kõikehõlmavate omaduste tõttu laialdaselt erinevates tööstusharudes. Selliste protsesside nagu vormimine ja kõrgel temperatuuril{2}}paagutamine saavutab suure tiheduse (tüüpiline Al₂O3 tihedus on 3,7–3,9 g/cm³) ja suurepärase mehaanilise, termilise ja elektrilise jõudluse, eristades seda muust tehnilisest keraamikast, nagu tsirkooniumoksiidi tootja omad või SiC plaadid. See on üks kõige sagedamini kasutatavaid ja tüüpilisemaid keraamilisi alusmaterjale elektroonilistes ja konstruktsioonilistes rakendustes, mis on saadaval sellistes vormides nagu alumiiniumoksiidi lehed, alumiiniumoksiidi plaadid ja spetsiaalsed kujundid, nagu poorsed alumiiniumoksiidi torud.

1. Kõrge mehaaniline tugevus: sellel on kõrge kõvadus ja hea kulumiskindlus, paindetugevus on tavaliselt vahemikus 300 kuni 400 MPa (olenevalt alumiiniumoksiidi sisaldusest ja protsessist).
2. Suurepärased isolatsiooniomadused: sellel on suur eritakistus ja dielektriline tugevus, mistõttu see sobib kõrge{0}}pinge- ja-kõrgsageduslike rakenduste jaoks, mis on peamine põhjus, miks alumiiniumoksiidi ihaldatakse elektroonikas.
3. Hea soojusjuhtivus: selle soojusjuhtivus on oluliselt kõrgem kui tavalisel keraamikal, hõlbustades soojuse hajumist (tavaliselt 18-30 W/(m·K) Al2O3 sisaldusega 96–99%).
4. Kõrge -temperatuuri stabiilsus: see võib töötada stabiilselt pikka aega kõrge temperatuuriga keskkondades (tavaliselt kuni 1500–1700 kraadi) ilma deformatsiooni või sulamiseta.
5. Keemiline stabiilsus: see on vastupidav enamiku hapete, leeliste ja muude kemikaalide korrosioonile ning näitab head vastupidavust oksüdatsioonile ja redutseerimisele.
6. Madal dielektriline kadu: sellel on madal dielektriline konstant ja kadude puutuja, mistõttu sobib see kõrgsageduslikele{0}}ahelatele.

1. Elektroonika- ja pooljuhtpakendid: kasutatakse substraatidena paksu-kile ja õhukese-kile ahelate, kiibikandjate ja soojust hajutavate komponentide jaoks (nt toitemoodulites, LED-kinnitustes). See on alumiiniumoksiidi keraamilise substraadi peamine kasutusala.
2. Tööstus- ja autoelektroonika: kasutatakse süüteküünla isolaatorites, andurite korpustes ja vooluringi aluspindades kõrge{0}}temperatuuri või kõrgepinge{1}}keskkonnas.
3. Laser- ja optoelektroonikaväljad: kasutatakse suure võimsusega{0}}optiliste seadmete lasertorude ja jahutusradiaatorite kinnitusalustena, kasutades sageli täpselt valmistatud alumiiniumoksiidplaate.
4. Meditsiiniseadmed: kasutatakse meditsiiniseadmete komponentides, nagu isoleerivad osad ja bioühilduvad korpused.
5. Soojusjuhtimine: toimib soojusjaoturi või isolatsioonipatjadena seadmetes, mis nõuavad tõhusat soojuse hajumist.
6. Kõrgsagedus{0}}side: väikese dielektrilise kadu tõttu kasutatakse mikrolaineahju komponentides, antenni substraatides ja RF-moodulites.
7. Spetsiaalsed ja filtreerimisrakendused: poorset alumiiniumoksiidi keraamikat, sealhulgas poorseid alumiiniumoksiidi torusid ja kettaid, kasutatakse filtreerimisel, difusioonil ja katalüsaatori toel. Kõrge temperatuuriga isolatsiooniks{1}}kasutatakse selliseid materjale nagu alumiiniumoksiidkeraamilised kiud.
8. Erikeskkonnad: kasutatakse kosmose-, keemia- ja metallurgiatööstuses komponentide puhul, mis nõuavad kõrget -temperatuuri- ja korrosioonikindlust (nttubi alumiiniumoksiidisvõialumiiniumoksiidi keraamikakeemiliseks töötlemiseks).

Kuum tags: alumiiniumoksiidi keraamiline substraat, alumiiniumoksiidi tootjate, tarnijate, tehase keraamiline substraat